一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm,处理办法是A、取下腭杆B、腭杆组织面做缓冲C、腭杆组织面加自凝树脂重衬D、不做任何处理E、取下腭杆后,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆

题目

一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm,处理办法是

A、取下腭杆

B、腭杆组织面做缓冲

C、腭杆组织面加自凝树脂重衬

D、不做任何处理

E、取下腭杆后,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆


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参考答案和解析
参考答案:E
更多“一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm,处理办法是A、取下腭杆 ”相关问题
  • 第1题:

    一患者上颁局部义齿修复。义齿初戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭粘膜2mm。处理方法是

    A.取下腭杆

    B.腭杆组织面加自凝树脂重衬

    C.不做处理,让患者将义齿戴走

    D.腭杆组织面缓冲

    E.取下腭杆后,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆


    正确答案:E

  • 第2题:

    一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm,处理方法是( )。

    A、取下腭杆

    B、腭杆组织面缓冲

    C、腭杆组织面加自凝树脂重衬

    D、不做任何处理

    E、取下腭杆后,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆


    参考答案:E

  • 第3题:

    一患者上颌局部义齿修复,义齿戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm,处理方法是

    A.腭杆组织面缓冲
    B.取下腭杆
    C.取下腭杆后,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆
    D.不做处理,让患者把义齿戴走
    E.腭杆组织面加自凝树脂重衬

    答案:C
    解析:

  • 第4题:

    一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭粘膜2mm。处理方法是

    A.不做处理,让患者将义齿戴走

    B.腭杆组织面加自凝树脂重衬

    C.腭杆组织面缓冲

    D.取下腭杆

    E.取下腭杆后,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆


    正确答案:C
    (答案:E)腭杆与粘膜间间隙过大,患者感觉不舒适,且容易嵌塞食物,应取下重新制作。

  • 第5题:

    一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm。处理方法是

    A.不做处理
    B.腭杆组织面加自凝树脂重衬
    C.基托组织面缓冲
    D.取下腭杆,用自凝树脂修补缺口
    E.取下腭杆后,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆

    答案:E
    解析: